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中微自主研发的等离子体硅通孔等刻蚀设备
来源:未知 作者:admin 发布时间:2018-11-20 07:24 浏览量:

  “愿共同推动集成电路高端设备产业的发展”

  ——访中微半导体设备(上海)有限公司董事长兼首席执行官尹志尧

  湖南日报·新湖南客户端记者 罗新国 摄

  湖南日报·新湖南客户端记者 周帙恒

  “我注意到,当前国内的芯片制造产业已经出现了投资过度的势头。因此,湖南发展集成电路产业,可以往半导体设备和材料的研制方向发展。”

  “湖南发展集成电路设备和材料产业有良好的基础,我们愿加强合作,助推湖南在这一领域实现跨越发展。”10月19日,来湘考察的中微半导体设备(上海)有限公司(以下简称“中微”)董事长兼首席执行官尹志尧表示,此行将重点围绕湖南集成电路设备和材料产业发展出谋划策,探讨交流合作的前景和机遇。

  十四年前毅然回国,造出“中国芯高端设备”

  集成电路产业是数码信息产业的基石,被列为《中国制造2025》重点聚焦发展的十大领域首位,对国民经济发展和国家信息安全起着至关重要的作用。其中,半导体高端设备又是集成电路芯片产业的基础。然而,长期以来,集成电路设备和技术一直被国外大公司所垄断。

  1984年,获得美国加州大学洛杉矶分校物理化学博士的尹志尧,前往美国硅谷工作,经过20年的持续努力,成长为几代等离子体刻蚀技术及设备的主要发明人和推动者,其领导和参与开发的刻蚀设备,几乎占到了全世界的一半。

  2004年,已年过六旬的尹志尧毅然带领团队从美国回到中国,在上海浦东创建了中微公司。十四年来,他带领的团队开发出的几种刻蚀机和化学薄膜设备,在性能和性价比上都进入了国际前三强。

  正是尹志尧所带领的技术团队突破核心技术垄断,在中国土地上,第一次能够生产出达到国际最先进水平的高端集成电路设备。

  拿出研发“两弹一星”的信心和决心

  所谓芯片,就是内含集成电路的硅片,制造一块小小的芯片,涉及50多个学科、上千道工序。“芯片制造是人类历史上最复杂的一项工艺,其难度堪比‘两弹一星’。” 尹志尧打了个形象的比喻,人的头发丝平均直径是0.07毫米,7纳米是人头发丝的一万分之一,要是用这么细小的笔尖,就可以在一粒大米上,写出一亿个中文字。

  “在这样的尺度上加工是非常困难的,其中关键就是靠光刻机和等离子体刻蚀机。”尹志尧说,没有微观加工设备,就造不出芯片,而中微就是一家微观加工高端设备公司。

  如今,中微自主研发的等离子体、硅通孔等刻蚀设备,已在国际主要芯片制造和封测厂商的生产线上广泛应用,其研发的生产设备已与世界最前沿技术比肩。随着产业快速发展,中微半导体也积极布局,加快发展步伐。

  “我注意到,当前国内的芯片制造产业已经出现了投资过度的势头。因此,湖南发展集成电路产业,可以往半导体设备和材料的研制方向发展。”为湖南“弯道超车”支招,尹志尧建议在资金、人才和政策上加大扶持力度,拿出当年研发“两弹一星”的信心和决心,为相关产业发展创造良好条件,同时他也表示,愿意深化与湖南相关方面的交流合作,携手推动湖南集成电路高端设备自主研发。